英国Alphasense氯气传感器CL2-A1：半导体蚀刻车间的“气体安全防线”

在半导体制造的干法蚀刻工艺中，氯气（Cl₂）作为核心反应气体，被广泛应用于硅基材料的刻蚀环节。然而，蚀刻设备排气口或车间内若发生氯气泄漏，不仅会腐蚀精密设备、污染晶圆，更可能引发工人中毒甚至爆炸事故。英国Alphasense推出的CL2-A1电化学氯气传感器，凭借其高灵敏度、抗干扰能力及严苛环境适应性，成为半导体生产线气体泄漏监测的关键设备，为高洁净度、高安全性的生产环境构筑起一道智能屏障。

纳米级泄漏的“火眼金睛”：0.01ppm级超低检测限

干法蚀刻过程中，氯气通过等离子体激发参与反应，但设备阀门密封失效、管道微裂纹或排气系统故障均可能导致微量泄漏（浓度常低于0.1ppm）。传统传感器因检测限较高（通常≥0.1ppm），难以捕捉此类早期泄漏。英国Alphasense氯气传感器CL2-A1采用三电极电化学设计，检测限低至0.01ppm（3σ标准偏差），可精准识别排气口或车间内0.01ppm的氯气浓度波动。例如，当蚀刻腔体阀门因长期使用产生0.05ppm的微量泄漏时，传感器能立即触发预警，避免泄漏扩大至危险水平。

抗等离子体干扰：在复杂电磁环境中稳定工作

蚀刻设备运行时产生的等离子体（含紫外光、高能粒子）及工艺气体（如BCl₃、SiCl₄）可能干扰传感器性能。CL2-A1通过优化电极材料与电解液配方，对紫外光（波长<400nm）的响应可忽略不计，同时对BCl₃、SiCl₄等含氯工艺气体的交叉敏感度<5%（20ppm浓度下），确保仅对游离氯气分子响应。此外，传感器外壳采用防静电设计，可抵御等离子体产生的电磁干扰，保障数据传输稳定性。

严苛环境下的“长跑选手”：高温低湿与长期稳定性

半导体车间通常维持低温（20-25°C）、低湿（<30%RH）环境，而蚀刻设备排气口温度可能因反应热升至60°C以上。CL2-A1工作温度范围覆盖-20°C至50°C（扩展模式下支持60°C短期运行），湿度范围15-90%RH，可适应车间与排气口的极端环境差异。其年零点漂移<0.02ppm、灵敏度漂移<8%（实验室条件下），即使连续运行12个月，仍能保持检测精度，减少了频繁校准对生产线的干扰。

智能联动与快速响应：从预警到处置的毫秒级响应

传感器可集成于蚀刻设备排气口或车间关键位置，通过RS485/无线模块随时传输数据至工厂控制系统（FCS）。当检测到氯气浓度超过安全阈值（如0.1ppm）时，系统立即触发三级响应：

1. 本地预警：排气口/车间内声光报警器启动，通知附近工人撤离；

2. 设备联动：自动关闭蚀刻设备气体供应阀门，切断泄漏源；

3. 应急处理：启动车间排风系统，将泄漏气体稀释至安全浓度（<0.05ppm）。
整个过程响应时间<2秒（从检测到联动完成），*大限度降低泄漏风险。

应用场景：从晶圆厂到研发实验室的全覆盖

英国Alphasense氯气传感器CL2-A1以“超低检测限、抗等离子体干扰、毫秒级响应”为核心优势，成为半导体蚀刻车间气体安全监测的标杆产品。通过随时感知微量泄漏并触发智能联动，其有效保障了工人健康、设备稳定与生产连续性，为半导体制造的“高精度、高安全”需求提供了坚实支撑

更多英国Alphasense氯气传感器CL2-A1：半导体蚀刻车间的“气体安全防线”请致电英肖仪器仪表（上海）有限公司是英国Alphasense埃尔弗 系列传感器的正规代理，包括氧传感器O2-A3、氧传感器O2-A2、氧传感器O2-M2、O2-W2氧传感器、H202-B1氧化氢传感器、光离子传感器、CO-CE一氧化碳传感器、PID传感器，VOC传感器、CO-CE一氧化碳传感器，以及多款一氧化碳传感器和氯化氢传感器HCL-A1，均展现出良好的性能与精度。若您对英国Alphasense的埃尔弗氧传感器有详细资料查询或购买需求，请致电英肖仪器仪表（上海）有限公司，联系电话：17317608376。埃尔弗 传感器

主要产品：｜O2-A2氧传感器｜|露点仪厂家｜在线露点仪｜｜|SADP露点仪|压缩空气露点仪|肖氏露点仪|在线露点仪| |露点仪厂家｜肖氏露点传感器|肖氏露点仪|在线露点仪｜膜康透湿仪|｜顶空分析仪|药品残氧仪|压缩空气露点仪|Mocon透氧仪|膜康透湿仪|PBI顶空分析仪|露点仪品牌|露点仪价格|露点仪批发|冷镜露点仪DewTrace｜氧传感器O2-A2|冷镜露点仪DewTrace｜冷镜露点仪DewMaster